4硅谷高管联合盗窃商业机密 将面10年刑

乐文 洛杉矶讯

4名被告为半导体制造商应用材料公司前任雇员。彭博社图

美国一家半导体制造商的4名前雇员,涉嫌联合起来窃取公司商业机密,并试图用此信息吸引投资创业。4人目前面临阴谋窃取商业机密和持有被盗商业机密的指控,如果定罪,他们可面临最高10年徒刑,以及25万元的罚款。

美国司法部本周公布,北加州的陈亮(Liang Chen音译)、Donald Olgado、许伟勇(Wei-Yung Hsu音译)、Robert Ewald涉嫌从他们曾经工作的应用材料公司内部数据库下载数据,其中包括超过1万6000张图纸。

美国检察官声明中指出,4人计划在中国和美国寻找资金后设立公司,以便与他们的前雇主竞争。4人盗窃的信息是用于制造平面电视和智能手机照明用途的芯片。

该公司发言人发表的声明中指出,应用材料公司大力保护其知识产权不被盗用或非法使用。 公司支持在此刑事案件中采取法律行动,以确保任何非法获取公司商业秘密的人都被绳之以法。公司目前不能进一步对此案发表评论。

美国联邦检察长舒普(Brian Stretch)和联邦调查局探员本内特(John Bennett)本周宣布,4名被告每人面临1项阴谋窃取商业机密以及11项持有盗窃商业机密的指控。如果被定罪,他们可面临最高10年监禁和25万元罚款。

根据起诉书中显示,现年52岁的陈亮,曾为公司替代能源产品部门的副总裁兼总经理;现年54岁Donald Olgado曾为该公司产品业务部的工程总监;现年57岁的许伟勇曾为该公司半导体LED部门的副总裁兼总经理;Robert Ewald曾为该公司替代能源产品部门能源环境系统主任。

根据职业社交平台上信息显示,涉案的两名华裔-陈亮和许伟勇,都是康奈尔大学的博士生。陈亮在华盛顿大学获得本科学位,许伟勇本科则毕业于台湾清华大学。

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